分光エリプソメーター ELC-300 (日本分光)
仕様 

【測定波長】

スキャンシステム: 自動波長駆動装置付き回折格子分光器 260860 nm
固定波長: He-Neレーザー 632.8 nm

【照射ビーム径】

モノクロメーター光: 約 6×6 mm (スペクトル幅 1 nm の時)

He-Ne レーザー光: 約 1 mmφ

【入射角範囲】 

4090° 連続コンピュータコントロール

【膜厚測定範囲】 

060,000 Å

【測定精度】(試料の表面,膜質によって精度が異なる。)

屈折率: ±0.01

膜厚: ±3 Å

消衰係数: ±0.01



 

装置について 
エリプソメーターは試料表面から反射された光の偏光の状態変化(ΨΔ)を測定することにより、試料(基板上の薄膜)の膜厚値、屈折率、消衰係数を求める光学測定装置です。単層膜から多層膜の各層の膜厚値と光学定数(屈折率、消衰係数)を非接触・非破壊で測定することが可能。サブナノメートルから数十マイクロメートルの範囲の膜厚が精度良く測定ができ、酸化膜、窒化膜、フォトレジストを含む半導体材料からディスプレイ用の有機膜や透明導電膜、また金属薄膜や表面粗さ測定まで幅広いアプリケーションで使用できます。