| 仕様 |
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【イオンソース】
イオン銃： ペニングイオン銃 2本
ビーム照射角度： -10°～ +10°
イオンビームエネルギー： 1～6 keV
イオン電流密度： 10mA/cm2 ピーク
ビーム径： 約350μm（ガス流量及び放電電圧により可変）
【試料ステージ】
回転速度： 1～6rpm
観察： 光学顕微鏡
【真空排気系】
真空ポンプ： ターボ分子ポンプ ／ ダイヤフラムポンプ
真空計： ペニング真空計 ／ ピラニ真空計 |
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| 本装置はイオンミリング法による透過電子顕微鏡用試料の前処理装置の１つであり、低角度でArイオンを照射してスパッタリングにより試料を薄片化します。低ダメージで薄片試料ができるため透過電子顕微鏡試料作製に最適です。2本のイオン銃を搭載しているため試料の表面と裏面を同時に照射でき、また照射角度の調節が可能です。印加電圧と試料室内の圧力を調整してイオンビームの加速エネルギーとビーム電流の制御ができます。試料室上方にはウィンドウと顕微鏡があり加工の様子を観察できます。 |
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