【X線発生部】

出力： 9kW（45kV - 200 mA)

ターゲット： Cu（ローター式）

【ゴニオメーター部】

ゴニオメーター半径： 300mm（0次元、1次元検出器使用時）

試料台： X-Yステージ (-50 mm～+50 mm)、RxRyステージ (-5 deg～+5 deg)、
GI測定用アタッチメント、キャピラリー回転アタッチメント、透過試料用アタッチメント、加熱ステージ（Anton paar 社製DHS-1100）

2θ角度範囲： 0.1° ～ 150°（面外方向）、 3° ～ 90°（面内方向）

測定温度範囲： 30℃ ～ 1100℃ （加熱ステージ：Anton Paar製：DHS-1100）

【光学系部】

入射光学系アタッチメント： CBO（集中光学系、平行ビーム光学系)、2結晶モノクロメータ[Ge(220)、Ge(400)]、4結晶モノクロメータ[Ge(220)、Ge(400)]、CBO-E（集光ミラー、透過・キャピラリー測定向け）、CBO-f（微小部測定、2次元検出器向け）

受光光学系アタッチメント： アナライザGe 2結晶 [Ge(220)、Ge(400)]、USAXS用アナライザ

【検出器】

多次元検出器 HyPix3000（リガク製）

【測定法】

反射法、透過法、微小角入射（GI）法

【測定対象】

粉末・薄膜・バルク・フィルム・溶液など

【Software】

SmartLab Studio II（外部PCにおいてPDF-5＋での結晶相検索が可能）