小角・広角X線散乱/回折装置 （SAXS/WAXS）NANO-Viewer  

 

装置名称 小角・広角X線散乱/回折装置 （SAXS/WAXS）
メーカー名 （株）リガク
型番 NANO-Viewer
用途 X線散乱および回折法による物質の構造や配向の評価
仕様

・線源： Cu (波長：1.54 Å)
・測定法： 透過法, 微小角入射（GI）法
・二次元検出器： PILATUS 100k（Dektris社）
・アタッチメント・特殊測定装置： 

GI-XRD測定用ゴニオステージ,
加熱・冷却ステージ（XRD測定と同期）,
高温吹付装置, 回転ゴニオステージ, 多連装ホルダ,
電場印加装置, 音波浮遊装置
・検出範囲： 0.08˚ ≤ 2θ ≤ 65˚（0.14 nm ≤ d ≤ 100 nm）
・測定温度範囲：
–196 ˚C ～350 ˚C

（加熱・冷却ステージ：Linkam社；HFSX350-GI）

–190 ˚C ～ 400 ˚C
（加熱・冷却ステージ：INSTEC社HTC402）
・連続測定試料数： 25（多連装ホルダ使用時）

・測定可能なサンプル： 有機結晶・無機結晶・高分子・液晶・ゲル・

界面活性剤など（粉末・薄膜・フィルム・溶液や分散液などの液体も可）

・測定サンプル量： 粉末の場合は1 mgから可, その他は応相談）
・解析ソフトウエア： 2DP, SmartLab Studio II, PDXL

 

　小角・広角X線散乱/回折装置 （SAXS/WAXS）NANOPIX   

 

装置名称 小角・広角X線散乱/回折装置 （SAXS/WAXS）
メーカー名 （株）リガク
型番 NANOPIX
用途 X線散乱および回折法による物質の構造や配向の評価
仕様

・線源： Cu (波長：1.54 Å)
・測定法： 透過法, 微小角入射（GI）法
・二次元検出器： HyPix6000（リガク社）
・アタッチメント・特殊測定装置： 

GI-XRD測定用ゴニオステージ,
加熱・冷却ステージ（XRD測定と同期）,
回転ゴニオステージ, 多連装ホルダ, 電場印加装置,
剪断ステージ
・検出範囲： 0.05˚ ≤ 2θ ≤ 45˚（0.20 nm ≤ d ≤ 180 nm）
・測定温度範囲：
–196 ˚C ～350 ˚C

（加熱・冷却ステージ：Linkam社；HFSX350-GI, 温度可変GI-XRD測定も可）

–190 ˚C ～ 400 ˚C
（加熱・冷却ステージ：INSTEC社HTC402）
・連続測定試料数： 35（多連装ホルダ使用時）

・測定可能なサンプル： 有機結晶・無機結晶・高分子・液晶・ゲル・

界面活性剤など（粉末・薄膜・フィルム・溶液や分散液などの液体も可）

・測定サンプル量： 粉末の場合は1 mgから可, その他は応相談）
・解析ソフトウエア： 2DP, SAXS 1D Viewer, SmartLab Studio II, PDXL