マイクロプロセス系

※赤字：必修

【中級】

講義名：リソグラフィ実習

概要：密着露光、レーザー描画などのフォトリソグラフィと電子線露光技術について、目的に応じて最適な結果を得るための手法を研究者や依頼者に提案でき、また、機器不具合にも対応できる知識および技術を習得する。

講義名：成膜実習

概要：真空蒸着，スパッタ成膜，プラズマCVDについて、目的に応じて最適な結果を得るための手法を研究者や依頼者に提案でき、また、機器不具合にも対応できる知識および技術を習得する。

講義名：東京科学大研究室見学

概要：東京科学大の研究室を訪問し、その分野の最先端の研究に触れることで研究者が求めている技術や必要とするスキルを知る。

講義名：マイクロプロセス講究１( 24 回，内発表 4～6 回）

概要：研究の具体的な解決課題を技術職員の技術力を活用することにより解決に導き、技術職員の研究課題解決能力を向上させることを目的とする。基礎あるいは先端研究の論文を輪読し受講者自身が解説することにより、プレゼンテーション力、コミュニケーション力、研究者視点の養成や関連分野の幅広い知識の習得を図る。（1年目のカリキュラム）

講義名：テクニカルレポート1（発表 4 回）

概要：研究の具体的な解決課題を技術職員の技術力を活用することにより解決に導き、技術職員の研究課題解決能力を向上させることを目的とする。与えられた（あるいは自ら設定した）技術・研究課題を中心に、専門知識とその周辺基礎知識を修得し、まとめて発表し議論を行うことにより、プレゼンテーション力、コミュニケーション力、研究者視点の養成や関連分野の幅広い知識の習得を図る。（1年目のカリキュラム）

講義名：応用物理学会，半導体・ナノテク関連展示会における技術情報収集（発表 4 回）

概要：学会の学術講演会やSemicon JAPANやnanotechの展示会に現地参加し，関連技術分野の最新技術情報を収集し会議報告形式でレポート作成と発表を行う。学会会場や展示会会場にコース担当とともに参加し，技術情報取集の方法を実践的に学び，討論や添削指導を通して議論する力を養う。これらを通して，プレゼンテーション力，作文力を向上させ，設備導入や更新計画の作成および申請書類の作成に役立てることを目的とする。

【上級】

講義名：微細構造形成実習

概要：主としてプラズマエッチング技術について、目的に応じて最適な結果を得るためのプラズマ源やエッチングの手法を研究者や依頼者に提案でき、また、機器不具合にも対応できる知識および技術を習得する。

講義名：マイクロプロセス講究２( 24 回，内発表 4～6 回）

概要：研究の具体的な解決課題を技術職員の技術力を活用することにより解決に導き，技術職員の研究課題解決能力を向上させることを目的とする。基礎的あるいは先端研究の論文を輪読し受講者自身が解説することにより，プレゼンテーション力、コミュニケーション力，研究者視点の養成や関連分野の幅広い知識の習得を図る。（2年目のカリキュラム）

講義名：テクニカルレポート２（発表 4 回）

概要：研究の具体的な解決課題を技術職員の技術力を活用することにより解決に導き，技術職員の研究課題解決能力を向上させることを目的とする。与えられた（あるいは自ら設定した）技術・研究課題を中心に、専門知識とその周辺基礎知識を修得し，まとめて発表し議論を行うことにより，プレゼンテーション力、コミュニケーション力，研究者視点の養成や関連分野の幅広い知識の習得を図る。（2年目のカリキュラム）

講義名：研究室体験

概要：協力いただける研究室への短期間の研究室体験を通じて、研究者の目的をより深く学ぶ。なぜその試料を作成するのか、なぜその測定を必要とするかなど研究の原点を理解することでより研究者・学生との距離を身近なものとする。

講義名：応用物理学会，半導体・ナノテク関連展示会における技術情報収集