| ご挨拶 マイクロプロセス部門は，「半導体プロセスによる集積システム及びＭＥＭＳ開発支援」を主な業務とする部門です（本学規則による）。 研究支援としては，半導体光・電子デバイス，ＭＥＭＳ(Micro-Electro-Mechanical Systems)のプロセス技術および関連材料の分析などを対象としております。 部門の技術の核として，「真空技術」，「プラズマプロセス技術」，「電子線技術」に焦点をあて，支援する研究内容を理解し，個々の研究にふさわしい研究支援業務を行いたいと考え日々研鑽を重ねております。当部門の特色は，従来技術や基盤技術からの研究支援だけでなく，新技術や技術開発による研究支援を行っているところにあります。これは, 新しい研究の進展には従来技術だけでなく新技術や新たな技術開発による支援が必要であるためです。研究が進展すれば新技術は従来技術となり,さらなる研究の進展のために新しい技術を開発する, このような研究と研究支援のポジティブなループを形成することにより, 本学の発展に寄与したいと考えております。 2024年4月 |
 マイクロプロセス部門長 博士（工学） 松谷 晃宏 |
当部門では，「共通施設の装置の担当」と「研究室からの研究支援依頼に基づく業務」の両面から研究をサポートしております。
「共通施設の装置の担当」では，専攻・研究所などの共通施設あるいは共同で運営している実験装置，研究室に設置されている学内共同設備の実験装置を担当するという形態で研究支援を行っております。担当内容としては，当該実験装置を用いた測定，分析，試料製作，学生への指導・講習，基本特性に関する実験，メンテナンスなどを行っております。
「研究室からの研究支援依頼に基づく業務」では，各研究室で取り組んでいる研究に専門技術の観点から関与し，研究実験の実施，技術開発，技術相談，実験の指導，実験装置のメンテナンス，装置の設計などを行っております。当部門は，すずかけ台キャンパスに所属しているため，支援業務の多くがすずかけ台キャンパスの研究室ですが，研究支援対象は全学の研究室となりますので，大岡山キャンパスでも研究支援業務を行っております。
■研究支援依頼は年度単位 （年度途中からでも可）
■研究室等の教授または准教授から包括的に依頼を受け，実際の支援業務は大学院生等と当部門担当者で日程等を調整の上，実施します。
＜研究支援依頼書により依頼された業務の例＞
・創造研究棟メカノマイクロプロセス室の管理・運営と主要なプロセス/分析装置の担当
・プラズマプロセス技術によるデバイス製作支援
・電子ビーム露光によるホトマスクの製作
・走査型電子顕微鏡による観察および表面形状測定
・エネルギー分散Ｘ線分析法による元素同定
・触針式表面形状測定器(Ulvac製Dektak150)による表面形状測定と解析
・クリーンルーム内の実験装置の保守等に関すること
・一般真空技術に対する支援
・プラズマプロセスにおける新技術の開発
・大学院および学部学生等の研究実験に対する技術的助言
・学会・展示会等における技術情報収集および技術開発の成果発表等
・共同研究における技術的支援（研究分担者）
・ドライエッチングによる微細構造形成に関わる技術支援
・ＦＩＢによる微細加工
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