装置一覧｜分光エリプソメーター(日本分光 ELC-300)

分光エリプソメーター（日本分光 ELC-300）

装置仕様

　【測定波長】

スキャンシステム：自動波長駆動装置付き回折格子分光器 260〜860 nm

　固定波長：He-Neレーザー 632.8 nm
　【照射ビーム径】

モノクロメーター光：約 6×6 mm （スペクトル幅 1 nm の時）

　He-Ne レーザー光：約 1 mmφ
　【入射角範囲】　
　40〜90° 連続コンピュータコントロール
　【膜厚測定範囲】
　0〜60,000 Å
　【測定精度】（試料の表面，膜質によって精度が異なる。）
　屈折率：±0.01
　膜厚：±3 Å
　消衰係数：±0.01

エリプソメーターは試料表面から反射された光の偏光の状態変化（ΨΔ）を測定することにより、試料（基板上の薄膜）の膜厚値、屈折率、消衰係数を求める光学測定装置です。

この装置を使ってできること

装置担当者・連絡先

　J1棟B02室　内線：5281
　設置場所　R1棟521室（6058）
　庄司 大（shoji.d.aa(@)m.titech.ac.jp）