装置一覧｜全自動多目的Ｘ線回折装置(リガク 薄膜 SmartLab)

全自動多目的Ｘ線回折装置(リガク 薄膜 SmartLab)

装置仕様

　【X線発生部】
　 出力：  9 kW (45 kV – 200 mA)
　 ターゲット：  Cu(ローター式)
　【ゴニオメーター部】
　 ゴニオメーター半径： 300 mm (0次元、1次元検出器使用時)
　 試料台：X-Yステージ (-50 mm~+50 mm)
　 　　　　RxRyステージ (-5 deg~ +5 deg)
　 　　　　GI測定用アタッチメント
　 　　　　キャピラリー回転アタッチメント
　 　　　　透過試料用アタッチメント
　 　　　　加熱ステージ（Anton paar 社製DHS-1100）
　 2θ測定範囲： 0.1°～150° (面外方向)、3°～90° (面内方向)
　 測定温度範囲：30 ˚C ～1100 ˚C（加熱ステージ：Anton paar製；DHS-1100）
　【光学系部】
　 入射光学系アタッチメント：CBO (集中光学系、平行ビーム光学系)
　 　　　　2結晶モノクロメータ[Ge(220), Ge(400)]
　 　　　　4結晶モノクロメータ[Ge(220), Ge(400)]
　 　　　　CBO-E（集光ミラー、透過・キャピラリー測定向け）
　 　　　　CBO-f（微小部測定、2次元検出器向け）
　 受光光学系アタッチメント： アナライザGe 2結晶 [Ge(220), Ge(400)]、USAXS用アナライザ
　【検出器】
　 ハイブリッド型ピクセル多次元検出器 HyPix3000（リガク製）
　【測定法】
　 反射法, 透過法, 微小角入射（GI）法
　【測定対象】
　 粉末・薄膜・バルク・フィルム・溶液など
　【Software】
　 SmartLab Studio II（外部PCにおいてPDF-5＋での結晶相検索が可能）
　付属ソフト：PowderXRD、XRR、HRXRD、Texture、Stress、MRSAXS

　原理
　試料にX線を照射しておこる回折現象を利用し、物質の結晶構造を決定していく装置です。

この装置を使ってできること

高強度で分解能に優れた集中光学系での粉末試料測定のほかに、人工多層膜ミラーにより単色化された平行ビームと各種モノクロメータやIn-plane光学系を組み合わせることで、薄膜試料に最適な装置です。

本装置の特徴として

・測定内容や試料（結晶性、膜厚など）に応じた最適な光学系が選択可能

・1, 2次元検出器を使用した高速逆格子空間マッピングの作成

・薄膜試料を室温から1,100℃までの高温測定

・USAXS光学系を用いた高分子やたんぱく質などサブミクロンスケールの大きな分子を評価等、多彩な機能を有しています。

主な用途として、結晶相同定、残留応力測定、高分解能ロッキングカーブ、逆格子空間マッピング、In-Plane測定、極点図形測定、X線反射率測定、（超）小角散乱があります。

装置担当者・連絡先

　設置3-D棟206室
　須田 勝美（suda.k.ab(@)m.titech.ac.jp）　R1棟120室　内線：5276
　鈴木 優一（suzuki.y.ac(@)m.titech.ac.jp）　大岡山 南７号館312号室　内線：3647
　飯田　裕（iida.h.aa(@)m.titech.ac.jp）　大岡山 南７号館312号室　内線：3647
　梶谷　孝*（kajitani.t.ab(@)m.titech.ac.jp）　R3-D棟206室　内線：5252または5227
　　*研究基盤戦略室・ファシリティステーション部門