Ｘ線分析装置
粉末Ｘ線回折計 X’Pert-MPD-OES （Philips（PANalytical))
■用途
粉末・薄膜X線回折法、格子定数測定等、加熱・冷却測定
■仕様
| ターゲット | Cu |  |
| 出力 | 45kV-40mA（特殊条件） | |
| ゴニオメーター | 2Theta/Omega型（試料水平型ゴニオメーター） | |
| 光学系（全体） | 1．Bragg-Brentano擬集中光学系—Line Focus 2．平行光学系（薄膜光学系）—Line Focus |
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| 入射光学系 | 1．Bragg-Brentano擬集中光学系用：ソーラースリット(0.04deg)／発散スリット／マスク | |
| 受光光学系 ダブルディテクタ |
１．集中光学系用：散乱防止スリット／自動受光スリット／ソーラースリット／湾曲結晶モノクロメータ ２．平行光学系用：平行平板コリメータ／平板結晶モノクロメータ |
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| 検出器 | 封入型比例計数管 | |
| オプション | 中低温チャンバー TTK450（-193 ～ 300℃） Anton Paar社製 |
■備考
薄膜材料結晶性解析用Ｘ線回折装置 X’Pert-Pro-MRD （Philips（PANalytical))
■用途
薄膜の逆格子空間マッピング（2Theta/Omega-Omega，2Theta/Omega-Chi）
薄膜の超高速逆格子空間マッピング（2Theta-Omega），高分解能ロッキングカーブ，
In-Plane測定，極点図形測定，微細試料の超高速粉末X線回折測定 など
■仕様
| ターゲット | Cu |  |
| 出力 | 45kV-40mA | |
| ゴニオメーター | 2Theta/Omega/Chi/Phi/X/Y/Z型 | |
| 光学系（全体） | １．Bragg-Brentano疑似集中光学系（スリットのみ）—Line Focus ２．平行光学系（モノクロ／ミラー使用）—Line Focus ３．疑似平行（ピンホール）光学系（レンズ使用）—Point Focus |
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| 入射光学系 | 1．X線キャピラリーレンズ(発散角0.3deg)／ミラー(発散角0.03deg)／２結晶Ge(220)ハイブリッドモノクロメータ／オートアッテネータ／プログラマブル発散スリット／ソーラースリット(0.04rad)／発散スリット／マスク 2．ピンホール疑似平行光学系用：Primary Beam Channel／ピンホールコリメーター |
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| 受光光学系 | 平行平板コリメータ(0.09deg,0.27deg)／グラファイトモノクロメータ／トリプルアクシスダブルディテクタ／ロッキングカーブディテクタ | |
| 検出器 | 封入型比例計数管、1次元検出器 X’Celerator |
■備考
低角度測定、薄膜X線法を使用している方で、極点図形測定装置(OEC)では分解能が不足する場合はご相談下さい。
微小部Ｘ線回折装置 D8 DISCOVER μHR （Bruker AXS）
■用途
薄膜と粉末のX線回折測定
１．2次元検出器
微小領域での相同定、極点図測定、残留応力測定、広域マッピング (2Theta-Psi)、
試料面マッピング (X,Y)、In-Plane測定、加熱測定
２．シンチレーションカウンタ
X線反射率測定、In-Plane測定
■仕様
| ターゲット | Cu |  |
| 出力 | 50 kV – 22 mA | |
| ゴニオメーター | 2Theta, omega | |
| 測定ステージ | 多軸ステージ (X, Y, Z, Phi, Psi） 高温試料ステージ (室温 ～900℃) Anton Paar 社製 DHS-900 |
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| CCD搭載 レーザービデオ 顕微システム |
画像取込み最大試料サイズ：8mm角程度 | |
| 光学系 | 入射光学系 二次元多層膜ミラー (発散角 0.04 deg) 金属コリメータ (φ.05, 0.1, 0.3, 0.5, 1 mm) 受光光学系 スリットボックス (シンチレーション使用時) |
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| 検出器 | 二次元検出器 VANTEC-500 (検出器距離 200 mm、300 mm) シンチレーションカウンタ |
■備考
レーザービデオで高さ調整を行います。レーザーを吸収、透過するサンプルは高さ調整が難しいため、測定できないことがあります。
X線照射面積が小さいため、試料平均のデータ収集には向きません。
検出器とレーザービデオの位置関係により検出器中心は108°(2θ最大は 123°)までです。
参考
本装置を使用した測定例 (3/16開催 報告会資料)
(報告提供 材料工学専攻 中村・史研究室)（PDF書類 1.5MB）
卓上Ｘ線回折計 Mini Flex 600 （リガク）
■用途
粉末X線回折法、格子定数測定等
■仕様
| ターゲット | Cu |  |
| 出力 | 40kV-15mA | |
| ゴニオメーター | 2θ／θ型（半径：150mm） | |
| 光学系（全体） | 集中光学系—Line Focus | |
| 入射光学系 | ソーラースリット(2.5deg)／発散スリット／マスク（高さ制限スリット） | |
| 受光光学系 | ソーラースリット(0.5deg,2.5deg)／散乱スリット／受光スリット | |
| 検出器 | 高速1次元検出器D/teX Ultra2 | |
| オプション | 可変ナイフエッジ、回転試料台、蛍光除去モード、大型試料用ステージ(膜も可) |
■備考
エネルギー分散型蛍光Ｘ線分析装置 NEX DE （リガク）
■用途
Ｘ線分析（EDX）、膜厚解析（薄膜）
■仕様
| Ｘ線管 | 最大出力12W、最大管電圧60kV ターゲット：Ag |
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| 検出器 | 半導体検出器：SDD（ｼﾘｺﾝﾄﾞﾘﾌﾄﾃﾞｨﾃｸﾀ） | |
| 測定径 | コリメータ自動交換機構 （1mm、3mm、10mm） |
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| 試料観察機構 | 装置内蔵カメラ | |
| 1次X線フィルタ | 自動交換：６種類 ＋ オープン | |
| 検出元素 | 大気：Al ～ U ヘリウム：Na ～ U |
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| 分解能 | 140eV以下 | |
| 試料室寸法 | 305mm(W) × 305mm(D) × 105mm(H) | |
| 試料台 | 15試料交換機構（試料径32mm用） |